東北大学 末光・吹留研究室の発表論文をご紹介
2002年発表論文
Effects of Electron Temperature on the Quality of a-Si:H and mc-Si Film.
Thin Solid Films, 407(2002) pp.7-11
Yuji Kurimoto, Tetsuji Shimizu, Satoru Iizuka, Maki Suemitsu and Noriyoshi Sato
Formation of extremely thin, quasi-single-domain 3C-SiC film on resistively heated on-axis Si(001) substrate using organo-silane buffer layer.
Material Science Forum (Trans Tech Publications Ltd., Switzerland),389-393(2002)pp.351-354
H. Nakazawa and M. Suemitsu
シリコン表面熱酸化初期過程の反応速度論
表面科学、23(2002)，pp.23-31.
末光眞希
アルミニウムの極薄酸化膜 アルコール切削法による超高真空対応表面の作成
真空、45(2002)，第5号.
末光眞希